特許

J-GLOBAL ID：200903096965364458

電子プローブマイクロアナライザー用の標準試料、および該標準試料の製造方法

発明者： 吉田 茂樹
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-139709
公開番号（公開出願番号）：特開2002-333412
出願日： 2001年05月10日
公開日（公表日）： 2002年11月22日
要約：

【要約】【課題】所望の材料や分析条件によって分析領域を高精度に実測することができ、分析精度や信頼性の向上を図ることが可能となる電子プローブマイクロアナライザー(EPMA)用の標準試料、および該EPMA用標準試料の製造方法を提供する。【解決手段】電子線を照射し、内部で発生するX線を検出して分析領域を測定する電子プローブマイクロアナライザー用の標準試料において、前記試料は、基板上に被分析薄膜が形成され、該被分析薄膜の膜厚または膜の幅が一様な割合で漸次変化している構成を有し、または被分析元素からなるバルク試料の一部の試料厚みまたは試料幅が、漸次変化しており、または被分析元素からなる試料全体が、その試料厚みまたは試料幅が漸次変化するように構成する。

請求項（抜粋）：

電子線を照射し、内部で発生するX線を検出して分析領域を測定する電子プローブマイクロアナライザー用の標準試料において、前記試料は、基板上に被分析薄膜が形成され、該被分析薄膜の膜厚または膜の幅が一様な割合で漸次変化している構成を有することを特徴とする電子プローブマイクロアナライザー用の標準試料。

IPC (3件)：

G01N 23/225 ,  G01N 1/00 102 ,  G01N 1/28

FI (4件)：

G01N 23/225 ,  G01N 1/00 102 B ,  G01N 1/28 G ,  G01N 1/28 N

Fターム (19件)：

2G001AA03 ,  2G001BA05 ,  2G001CA01 ,  2G001FA02 ,  2G001FA30 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001GA08 ,  2G001JA12 ,  2G001KA01 ,  2G001MA05 ,  2G001RA03 ,  2G001RA04 ,  2G001RA08 ,  2G001RA20 ,  2G052AD32 ,  2G052AD52 ,  2G052EC18 ,  2G052GA18