特許

J-GLOBAL ID：200903096975404210

光強度シミュレーション装置

発明者： 福島 祐一
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-143312
公開番号（公開出願番号）：特開平9-325467
出願日： 1996年06月05日
公開日（公表日）： 1997年12月16日
要約：

【要約】【課題】 マスクパターンを最適化するためのシミュレーションを効率よく行うと共に、マスクパターンデータの部分的な変更が容易な光強度シミュレーション装置を提供すること。【解決手段】 パターン作成部11は、入力部1から入力された各種データに基づいてパターンデータを作成し、記憶部12に記憶させる。また、光強度計算部21は、パターン選択部13によって記憶部12内から選択されたパターンデータおよび光学条件選択部14によって選択された光学条件に基づいて、シミュレーション計算を行い、その結果を出力部2へ出力する。また、シミュレーション計算を繰り返し行う場合等は、解析処理部22からデータ変更指示が出され、これに基づき検索部15が記憶部12またはデータベース部3から適宜パターンデータを検索してパターン選択部13へ出力し、パターンデータの変更を行う。

請求項（抜粋）：

フォトリソグラフィ工程における露光工程のシミュレーションを行う光強度シミュレーション装置において、前記シミュレーションに用いるシミュレーションデータを作成するデータ作成手段と、前記シミュレーションデータに基づいて露光工程のシミュレーションを行う模擬手段とを有してなり、前記模擬手段は、得られたシミュレーション結果に基づいて、次に行うシミュレーションに使用するシミュレーションデータの内容を、前記データ作成手段に指示し、前記データ作成部は、前記模擬手段の指示に従ってシミュレーションデータを変更することを特徴とする光強度シミュレーション装置。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/00 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/00 ,  H01L 21/30 502 Z