清浄気体の調製方法及び装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉嶺桂 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-284003
公開番号（公開出願番号）：特開平8-117539
出願日： 1994年10月25日
公開日（公表日）： 1996年05月14日
要約：

【要約】【目的】基材及び基板表面に汚染をもたらすイオン性ガス及び接触角を増大させるガス状汚染物質の濃度が十分に低い清浄気体を調製する方法及び装置を提供する。【構成】基材又は基板表面の汚染を防止するための清浄気体7の調製方法において、基材又は基板表面と接触させる気体2を、少なくともイオン交換繊維を用いたイオン性ガス成分の除去工程3を通した後、シリカゲル、ゼオライト、モレキュラシーブ、アルミナ、珪藻土、活性炭、ガラス材又はフッ素化合物から選ばれた少なくとも1種類の吸着材を用いた接触角を増加させる非メタン炭化水素の除去工程51、52を通して調製するものであり、前記イオン性ガス成分の除去工程では、イオン性ガス濃度を5ppb以下にするのがよい。

請求項（抜粋）：

基材又は基板表面の汚染を防止するための清浄気体の調製方法において、基材又は基板表面と接触させる気体を、少なくともイオン交換繊維を用いたイオン性ガス成分の除去工程を通した後、シリカゲル、ゼオライト、モレキュラシーブ、アルミナ、珪藻土、活性炭、ガラス材又はフッ素化合物から選ばれた少なくとも1種類の吸着材を用いた接触角を増加させる非メタン炭化水素の除去工程を通して調製することを特徴とする清浄気体の調製方法。

IPC (2件)：

B01D 53/02 , B01D 53/72

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平2-026612
特開昭63-077557
炭化水素の除去方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-105092 出願人：株式会社荏原総合研究所

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