特許
J-GLOBAL ID：200903096985631665

軟X線縮小投影露光装置、軟X線縮小投影露光方法及びパターン形成方法

発明者：
松尾 隆弘

松尾 隆弘 について

, 
笹子 勝

笹子 勝 について


出願人/特許権者：
松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (1件)： 前田 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-218473
公開番号（公開出願番号）：特開2003-031483
出願日： 2001年07月18日
公開日（公表日）： 2003年01月31日
要約：
【要約】【課題】 軟X線を露光光源として用いる軟X線縮小投影露光装置において、反射型マスク、軟X線を反射型マスクに照射させる照明光学系、又は反射型マスクのパターンを結像させる縮小投影光学系にカーボン膜が堆積しないようにする。【解決手段】 放電型X線源111及び照明光学系112が設けられている第1のチャンバー110における炭素化合物ガスの分圧は第1の拡散ポンプ113により1.33×10-8Pa以下に制御される。反射型マスク121、反射光学系123と及び縮小投影光学系124が設けられている第2のチャンバー120における反射型マスク121が配置されている領域及び縮小投影光学系124が配置されている領域の炭素化合物ガスの分圧は第2の拡散ポンプ125により1.33×10-8Pa以下に制御される。
請求項（抜粋）：
波長が4〜20nm帯の軟X線を発生する光源と、所望のパターンが形成された反射型マスクと、前記軟X線を前記反射型マスクに照射させる照明光学系と、前記反射型マスクのパターンをウエハ上に結像させる縮小投影光学系とを備えた軟X線縮小投影露光装置であって、前記照明光学系が配置される第1の領域、前記反射型マスクが配置される第2の領域及び前記縮小投影光学系が配置される第3の領域のうちの少なくとも1つの領域における炭素化合物のガスの分圧を1.33×10-8Pa以下に制御する制御手段を備えていることを特徴とする軟X線縮小投影露光装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/00 ,  G21K 5/02
FI (5件)：
G03F 1/16 A ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/00 B ,  G21K 5/02 X ,  H01L 21/30 531 A
Fターム (7件)：
2H095BA10 ,  2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  5F046GA03 ,  5F046GA07 ,  5F046GA14 ,  5F046GD10
引用特許：
審査官引用 (4件)
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