特許

J-GLOBAL ID：200903096986220774

欠陥検出方法及びその装置

発明者： 小室 考広
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-070804
公開番号（公開出願番号）：特開2002-267616
出願日： 2001年03月13日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：

【要約】【課題】 下地層のフォトレジストの膜むらや洗浄の残りなどの影響を抑えて欠陥のみを検出する。【解決手段】 レジスト塗布前の基板1の下地層の第1の画像データD1 と露光処理後の基板1の第2の画像データD2 とを比較し、その差画像データD3 (=D1 -D2 )に基づいて基板1上の欠陥検出を行なう。

請求項（抜粋）：

電子デバイスとなる基板に対して成膜、レジスト塗布、露光処理、現像、エッチングの各プロセスを行なうときに前記基板上の欠陥を検出する欠陥検出方法において、前記レジスト塗布前の前記基板の下地層を撮像して得られた第1の画像データと前記レジスト塗布以降のプロセスの前記基板を撮像して得られた第2の画像データとを比較し、この比較結果に基づいて少なくとも前記下地層の影響を無くして前記基板上の欠陥検出を行なうことを特徴とする欠陥検出方法。

IPC (4件)：

G01N 21/956 ,  G06T 1/00 305 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66

FI (4件)：

G01N 21/956 A ,  G06T 1/00 305 A ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/30 502 V

Fターム (33件)：

2G051AA51 ,  2G051AA73 ,  2G051AB02 ,  2G051BA20 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CC07 ,  2G051DA01 ,  2G051DA03 ,  2G051DA07 ,  2G051EA08 ,  2G051EA14 ,  2G051EA23 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2G051FA10 ,  4M106AA01 ,  4M106DB04 ,  4M106DB20 ,  4M106DG03 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ23 ,  5B057AA03 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CE02 ,  5B057CE09 ,  5B057CH11 ,  5B057DA03 ,  5B057DC32