特許

J-GLOBAL ID：200903097001354026

メソ構造体薄膜及びその製造方法

発明者： 宮田 浩克
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-268617
公開番号（公開出願番号）：特開2001-145831
出願日： 2000年09月05日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
要約：

【要約】【課題】 より好適なメソ構造体薄膜を得ること及びより好適なメソ構造体薄膜の製造方法を実現することを課題とする。【解決手段】 メソ構造体薄膜の製造方法であって、繰り返しユニットの分子構造中に2つ以上の連続したメチレン基を含んでいる高分子化合物表面上に、メソ構造体薄膜を形成するメソ構造体薄膜の製造方法。

請求項（抜粋）：

メソ構造体薄膜の製造方法であって、繰り返しユニットの分子構造中に2つ以上の連続したメチレン基を含んでいる高分子化合物上に、配向したロッド状の細孔を有するメソ構造体薄膜を形成することを特徴とするメソ構造体薄膜の製造方法。

IPC (4件)：

B01J 19/00 ,  B01J 20/10 ,  C01B 33/12 ,  C08J 7/04

FI (4件)：

B01J 19/00 K ,  B01J 20/10 Z ,  C01B 33/12 C ,  C08J 7/04 Z