特許

J-GLOBAL ID：200903097002277386

複合多孔体及び複合多孔体の製造方法

発明者： 勝俣 正史 ,  小更 恒
出願人/特許権者： TDK株式会社
代理人 (2件)： 大場 充 ,  堀川 美夕紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-191582
公開番号（公開出願番号）：特開2007-007995
出願日： 2005年06月30日
公開日（公表日）： 2007年01月18日
要約：

【課題】 厚さが薄く、かつ樹脂が含浸された多孔体からなる可撓性に優れた複合多孔体を容易に製造する手法を提供する。【解決手段】 金属箔4と、酸化物粒子OP群から構成され、かつ外部に連通する空孔を有する酸化物粒子構造体1と、を備え、酸化物粒子構造体2は、金属箔4の表面に形成された酸化膜を介して金属箔4と接合されている。この複合多孔体10は、酸化物粒子構造体2の空孔に樹脂が充填されていることにより、可撓性が付与される。酸化物粒子構造体2の空孔率は20〜80%であることが好ましく、酸化物粒子は、磁性体、誘電体から構成することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

第1の導電金属基体と、 酸化物粒子群から構成され、かつ外部に連通する空孔を有する酸化物粒子構造体と、を備え、 前記酸化物粒子構造体は、前記第1の導電金属基体の表面に形成された酸化膜を介して前記第1の導電金属基体と接合されていることを特徴とする複合多孔体。

IPC (2件)：

B32B 9/00 ,  B32B 5/16

FI (2件)：

B32B9/00 A ,  B32B5/16

Fターム (26件)：

4F100AA17A ,  4F100AB01C ,  4F100AB01D ,  4F100AB16 ,  4F100AB33C ,  4F100AB33D ,  4F100AG00 ,  4F100AK01A ,  4F100AK21 ,  4F100AK25 ,  4F100AL05A ,  4F100AS00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100DE01 ,  4F100DE01A ,  4F100EH46 ,  4F100EJ05 ,  4F100EJ12B ,  4F100EJ17 ,  4F100EJ42 ,  4F100EJ48 ,  4F100JG01C ,  4F100JG01D ,  4F100JG05A ,  4F100JG06A

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 多孔質磁性体、多孔質磁性体の製造方法、電波吸収体、及び磁性体レンズ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-314497   出願人：株式会社村田製作所