特許

J-GLOBAL ID：200903097003709387

基板およびその製造方法

発明者： 山田 太郎 ,  川合 真紀
出願人/特許権者： 独立行政法人理化学研究所
代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-074687
公開番号（公開出願番号）：特開2005-265459
出願日： 2004年03月16日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：

【課題】アルキル鎖長が比較的短いアルキル基、特に末端に置換基を有するアルキル基が表面上に固定された基板、特にケイ素基板を提供すること、および、そのような基板を、不純物である酸化膜の生成を抑制しつつ、簡便に製造し得る方法を提供すること。【解決手段】基板上にアルキル基を有する基板。前記基板は、ケイ素基板、炭化ケイ素基板、ゲルマニウム基板、または炭素基板であり、前記アルキル基は、基板に含まれるケイ素原子、炭素原子、またはゲルマニウム原子とアルキル基に含まれる炭素原子との共有結合を介して基板上に固定されている。前記基板の製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

基板上にアルキル基を有する基板であって、 前記基板は、ケイ素基板、炭化ケイ素基板、ゲルマニウム基板、または炭素基板であり、 前記アルキル基は、基板に含まれるケイ素原子、炭素原子、またはゲルマニウム原子とアルキル基に含まれる炭素原子との共有結合を介して基板上に固定されている、前記基板。

IPC (2件)：

G01N33/53 ,  H01L49/00

FI (2件)：

G01N33/53 M ,  H01L49/00 Z

Fターム (7件)：

4B029AA07 ,  4B029AA21 ,  4B029AA23 ,  4B029BB15 ,  4B029BB20 ,  4B029CC03 ,  4B029FA12

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 米国特許公開公報2003-0125496