特許

J-GLOBAL ID：200903097015465840

投影露光装置及び投影露光方法

発明者： 小松田 秀基 ,  森 孝司
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 井上 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-269056
公開番号（公開出願番号）：特開2000-091220
出願日： 1998年09月08日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：

【要約】【課題】 反射型マスクを用いた投影露光装置において、解像力を低下させず良好な像を得ることができる投影露光装置を提供する。【解決手段】 放射光を供給する光源部100,101,2と、所定のパターンが形成された反射型マスク9に対して前記放射光を導く照明系4,5,6,8と、前記反射型マスクにて反射された前記放射光を被露光基板11上へ導き、該被露光基板上に前記所定のパターンの像を形成する投影系10と、前記反射型マスクと前記被露光基板との少なくとも一方を相対的に移動させる走査駆動部MT1,MT2とを備え、前記照明系は、前記反射型マスクと共役な位置近傍に配置される視野絞り7を有する。

請求項（抜粋）：

放射光を供給する光源部と、所定のパターンが形成された反射型マスクに対して前記放射光を導く照明系と、前記反射型マスクにて反射された前記放射光を被露光基板上へ導き、該被露光基板上に前記所定のパターンの像を形成する投影系と、前記反射型マスクと前記被露光基板との少なくとも一方を相対的に移動させる走査駆動部とを備え、前記照明系は、前記反射型マスクと共役な位置近傍に配置される視野絞りを有することを特徴とする投影露光装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G02B 17/00 ,  G02B 17/08 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521

FI (7件)：

H01L 21/30 531 A ,  G02B 17/00 A ,  G02B 17/08 Z ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 517 ,  H01L 21/30 531 M

Fターム (12件)：

2H087KA21 ,  2H087NA04 ,  2H087NA05 ,  2H087TA01 ,  2H097AA05 ,  2H097CA17 ,  5F046BA05 ,  5F046CA03 ,  5F046CB03 ,  5F046CB17 ,  5F046CC13 ,  5F046CC15