特許
J-GLOBAL ID：200903097018047798
パターン検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-191043
公開番号（公開出願番号）：特開平7-043309
出願日： 1993年08月02日
公開日（公表日）： 1995年02月14日
要約：
【要約】【目的】 製造上のゆらぎに影響されること無く安定したパターン検査を行う。【構成】 検査画像と比較画像のパターン比較を画素ごとに画素間類似性判定器5で最も類似性の高い画素を選択して画素間の比較を行う。これを検査画像全体について行い画像間の比較によるパターン検査を行う。
請求項（抜粋）：
検査対象パターンを記録した検査用画像メモリと、該検査用画像メモリのパターンと比較検査する予め記録した比較用画像メモリと、前記検査用画像メモリと該比較用画像メモリの前記比較用画像メモリの各画素に対して前記検査用画像メモリの類似性を判定する画素間類似性判定器と、該類似性判定器からの判定結果により類似度の高い前記検査用画像メモリの画素を選択する画素シフト選択器と、該画素シフト選択器で選択した前記検査用画像メモリの画素と前記比較用画像メモリの画素との差を算出する画素間差分器と、該画素間差分器の演算結果ににたいして欠陥を判定する欠陥判定器とを備えることを特徴とするパターン検査装置。
IPC (3件)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, G06T 7/00
G06F 15/62 405 A
, G06F 15/70 460 F
