特許
J-GLOBAL ID：200903097022945202

投影光学系、フォトリソグラフィ方法および露光装置、並びに露光装置を用いた方法

発明者：
大村 泰弘

大村 泰弘 について

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池沢 弘範

池沢 弘範 について

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ウィリアムソン, ディヴィッド, エム.

ウィリアムソン, ディヴィッド, エム. について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-530609
公開番号（公開出願番号）：特表2005-536775
出願日： 2003年08月22日
公開日（公表日）： 2005年12月02日
要約：
投影光学系およびフォトリソグラフィ方法。広いフィールドに亘って高精度に像を投影するためのリソグラフィ液浸投影光学系および投影方法。この投影光学系および投影方法は、像面上の浸液に入射する前の光路の外縁光線角度を小さくするための最も後側に配置されたレンズを備えている。
請求項（抜粋）：
第1面(OP)の像を第2面(IP)上に投影するための投影光学系であって、 境界レンズ(E233)と、 前記境界レンズ(E233)と前記第2面(IP)との間の少なくとも1つの液浸液(IL)の層とを有し、 前記境界レンズ(E233)は、前記境界レンズ(E233)を通して前記第2面(IP)上に投影される光に関して、入射前の外縁光線収束角(L)が前記境界レンズ(E233)内の外縁光線収束角(S)より大きくなるように形成された第1面側の光学面(S263)を有している投影光学系。
IPC (6件)：
G02B17/08 ,  G02B13/14 ,  G02B13/18 ,  G02B13/24 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027
FI (7件)：
G02B17/08 A ,  G02B13/14 ,  G02B13/18 ,  G02B13/24 ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/30 517
Fターム (17件)：
2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  2H087NA04 ,  2H087RA00 ,  2H087RA05 ,  2H087RA12 ,  2H087RA13 ,  2H087TA01 ,  2H087TA05 ,  2H087UA03 ,  5F046BA04 ,  5F046CB02 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25 ,  5F046CB26 ,  5F046CC01 ,  5F046DA13
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 液浸型露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン
  • 原盤露光装置及び方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-076450   出願人：日立マクセル株式会社

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