特許
J-GLOBAL ID:200903097035302874

成膜装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-080593
公開番号(公開出願番号):特開平9-241844
出願日: 1996年03月08日
公開日(公表日): 1997年09月16日
要約:
【要約】[課題] 基板への成膜管理を容易にする。[解決手段] 蒸着室と、蒸着室の下部に設置される蒸着源と、蒸着源の上部に設置され薄膜が形成される基板を整列固定する基板ホルダーと、該基板ホルダーをガイド固定し該基板ホルダーを蒸着源の上部で回転させる蒸着治具と、基板に形成される薄膜厚を監視する膜厚モニターと、該膜厚モニターの情報により蒸着源をコントロールする制御装置により構成される成膜装置において、膜厚モニターを前記基板の近傍に設置する。
請求項(抜粋):
蒸着室と、蒸着室の下部に設置される蒸着源と、蒸着源の上部に設置され膜が形成される基板を整列固定する基板ホルダーと、該基板ホルダーをガイド固定し該基板ホルダーを蒸着源の上部で回転させる蒸着治具と、基板に形成される膜厚を監視する膜厚モニターと、該膜厚モニターの情報により蒸着源をコントロールする制御装置により構成される成膜装置において、膜厚モニターが前記基板ホルダーと同じ動きができる位置で且つ基板の近傍に設置されていることを特徴とする成膜装置。

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