特許

J-GLOBAL ID：200903097050589888

真空成膜装置

発明者： 佐々木 昇 ,  小島 弘 ,  原田 隆宏
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-254635
公開番号（公開出願番号）：特開平5-195221
出願日： 1992年09月24日
公開日（公表日）： 1993年08月03日
要約：

【要約】【目的】珪素酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等の無色透明な薄膜の膜厚をリアルタイムに確認しながら成膜する装置と所望の膜厚を成膜できる装置を提供する。【構成】長尺フィルムの走行経路に沿って冷却ロールと巻取りロールの中間に、上記化合物の薄膜に赤外線を照射する赤外線照射部と、薄膜を透過する赤外線量を測定する透過率測定部及び赤外線透過率より薄膜の膜厚を算出する算出部とからなる膜厚検出手段を有する。さらに、フィルムの走行速度若しくは加熱源の温度を調節して、所望の膜厚を得る。

請求項（抜粋）：

真空装置内に、長尺フィルムの走行経路に沿って配置された巻き出しロール、冷却ロール及び巻取りロールを有し、この冷却ロールの下方に可視光線に対して透明で赤外域で吸収のある化合物を収容するソースと、このソース内部の透明化合物を加熱して蒸発させる加熱源を有する真空成膜装置において、長尺フィルムの走行経路に沿って冷却ロールと巻取りロールの中間に、上記化合物の薄膜に赤外線を照射する赤外線照射部と、薄膜を透過する赤外線量を測定する透過率測定部及び赤外線透過率より薄膜の膜厚を算出する算出部とからなる膜厚検出手段を有することを特徴とする真空成膜装置。

IPC (2件)：

C23C 14/54 ,  G01B 11/06

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭62-101428
  
• 特開昭63-223163
  
• 特公昭53-012953
  
• 特公昭53-002661