特許
J-GLOBAL ID:200903097054763378

電子線を用いた評価装置及び方法、並びに、こうした装置及び方法を用いたデバイス製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 社本 一夫 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-354290
公開番号(公開出願番号):特開2002-157970
出願日: 2000年11月21日
公開日(公表日): 2002年05月31日
要約:
【要約】【課題】 評価装置のスループットを大幅に向上させると共に、光学系を分解することなくクリーニングすること。【解決手段】 評価装置は、試料10の表面に一次光学系を介して複数の電子線を供給する電子ビーム生成手段1〜9と、試料10の表面から放出される二次電子線を検出器17に導く二次光学系14、15と、試料10を複数の電子線に対して相対的に移動させる移動手段12、Sとを具備する。複数の電子線の相互間隔は二次光学系の分解能よりも大きい。一次光学系及び二次光学系を分解することなく、有機的汚染をドライクリーニングするため、酸素ガスを吹出すノズル23がマルチ開口板4の上側又は下側に設けられる。
請求項(抜粋):
試料の表面に一次光学系手段を介して複数の電子線を供給する電子ビーム生成手段と、前記試料の表面から放出される二次電子線を検出器群に導く二次光学系手段と、前記試料を前記複数の電子線に対して相対的に移動させる移動手段と、を具備し、前記複数の電子線の相互間隔を前記二次光学系手段の分解能よりも大きくしたことを特徴とする、電子線を用いた評価装置。
IPC (7件):
H01J 37/28 ,  G01B 15/00 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/16 ,  H01J 37/29 ,  H01L 21/66
FI (7件):
H01J 37/28 B ,  G01B 15/00 B ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/147 B ,  H01J 37/16 ,  H01J 37/29 ,  H01L 21/66 J
Fターム (45件):
2F067AA54 ,  2F067AA62 ,  2F067BB01 ,  2F067CC17 ,  2F067EE04 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067LL19 ,  2F067MM06 ,  2F067PP12 ,  2F067QQ02 ,  2F067RR35 ,  2F067TT02 ,  2F067UU01 ,  2F067UU33 ,  2G001AA03 ,  2G001AA07 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001CA07 ,  2G001DA06 ,  2G001DA08 ,  2G001FA01 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001HA07 ,  2G001HA13 ,  2G001JA02 ,  2G001JA04 ,  2G001JA14 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001RA05 ,  2G001SA01 ,  2G001SA04 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA08 ,  4M106CA39 ,  4M106DB05 ,  4M106DB30 ,  4M106DJ04 ,  5C033FF03 ,  5C033UU04

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