特許

J-GLOBAL ID：200903097077284191

ガス導入機構およびガス導入方法、ガスリーク検出方法、ならびに真空処理装置

発明者： 廣瀬 潤 ,  濱元 新二 ,  小泉 浩 ,  中川 健一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-160453
公開番号（公開出願番号）：特開2001-338914
出願日： 2000年05月30日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：

【要約】【課題】 載置台とその表面に保持された被処理体との間にガスを供給する際に短期間でガス圧力を所定値にすることができ、かつガスの無駄が少なく、小型化が可能なガス導入機構を提供すること。【解決手段】 真空に保持可能な真空チャンバー1内に設けられかつその表面に被処理体Wが載置保持される載置台2,6と、載置台2,6に保持された被処理体Wとの間にガスを導入するガス導入機構18は、載置台2,6と載置台2,6に保持された被処理体Wとの間にガスを供給するガス供給ライン19と、ガス供給ライン19の圧力を測定するマノメータ41と、マノメータ41の上流側に設けられガス供給ライン19のガス流量を調節する流量調節バルブ42と、マノメータ41により測定された圧力が設定圧力になるように流量調節バルブ42を制御する制御手段36とを具備する。

請求項（抜粋）：

真空に保持可能な真空チャンバー内に設けられかつその表面に被処理体が載置保持される載置台と、載置台に保持された被処理体との間にガスを導入するガス導入機構であって、前記載置台と載置台に保持された被処理体との間にガスを供給するガス供給ラインと、前記ガス供給ラインの圧力を測定するマノメータと、前記マノメータの上流側に設けられガス供給ラインのガス流量を調節する流量調節バルブと、前記マノメータにより測定された圧力が設定圧力になるように前記流量調節バルブを制御する制御手段とを具備することを特徴とするガス導入機構。

IPC (5件)：

H01L 21/3065 ,  B01J 3/02 ,  C23C 16/455 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205

FI (5件)：

B01J 3/02 M ,  C23C 16/455 ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B

Fターム (29件)：

4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA06 ,  4K030HA15 ,  4K030JA05 ,  4K030KA23 ,  4K030KA39 ,  5F004BA08 ,  5F004BA09 ,  5F004BB07 ,  5F004BB22 ,  5F004BB24 ,  5F004BB25 ,  5F004BB28 ,  5F004BC08 ,  5F004CA04 ,  5F045BB08 ,  5F045EH13 ,  5F045EH16 ,  5F045EH20 ,  5F045EJ10 ,  5F045EM05 ,  5F045EM07 ,  5F103AA08 ,  5F103BB41 ,  5F103BB60 ,  5F103HH03 ,  5F103HH04 ,  5F103RR02

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 基板処理装置の基板温度制御法と基板温度制御性判定法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-054116   出願人：アネルバ株式会社
• 温度調整装置およびその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-100943   出願人：三菱電機株式会社
• 真空圧力制御システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-333689   出願人：シーケーディ株式会社