特許
J-GLOBAL ID:200903097077611184

エキシマレーザ装置用還流ファンの構造

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 深見 久郎 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-289222
公開番号(公開出願番号):特開2002-198589
出願日: 2001年09月21日
公開日(公表日): 2002年07月12日
要約:
【要約】【課題】 金属製のパイプを用いることなく、磁気軸受と位置センサなどが直接フッ素ガス雰囲気にさらされることがないようなエキシマレーザ装置用還流ファンの構造を提供する。【解決手段】 チャンバ1内にはレーザガスが封入されており、チャンバ1内で回転軸2に取付けられたファン3が回転する。チャンバ1の両側にはレーザガスに対して耐腐食性のあるシール部材59で回転軸2との間がシールされたラジアル電磁石5,9と、レーザガスに対して耐腐食性のある隔壁65によって回転軸2とセンサユニット64との間がシールされた位置検出センサ6,10が配置され、回転軸2を軸浮上させ、モータステータ11の駆動力によってファン3が回転する。
請求項(抜粋):
ファンが取付けられた回転軸と、前記回転軸を非接触で支持する制御型磁気軸受と、前記回転軸を回転させるためのモータとを備え、前記モータの駆動によるファンの回転によってチャンバ内のレーザガスを循環させるエキシマレーザ装置用還流ファンの構造において、前記制御型磁気軸受は、前記回転軸の軸方向に配置され、前記レーザガスに対して耐腐食性のある金属でコイルをシールして構成されたラジアル電磁石と、前記各ラジアル電磁石の周辺に配置され、前記レーザガスに対して耐腐食性のある金属でセンサユニットをシールした位置検出センサを含むことを特徴とする、エキシマレーザ装置用還流ファンの構造。
Fターム (5件):
5F071AA06 ,  5F071DD08 ,  5F071EE04 ,  5F071FF09 ,  5F071JJ10

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