特許

J-GLOBAL ID：200903097081493161

マスクパターン偏倍方法、偏倍装置及びマスク構造体

発明者： 森谷 章 ,  宮地 剛司 ,  原 真一 ,  時田 俊伸
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-190809
公開番号（公開出願番号）：特開2003-007597
出願日： 2001年06月25日
公開日（公表日）： 2003年01月10日
要約：

【要約】【課題】 X軸方向とY軸方向とで異なる所望の倍率補正を行う偏倍を可能にして、より高精度な重ね合わせを実現する。【解決手段】 マスクパターンを形成したマスク基板と四角窓2を有するリング状の支持フレーム1を持ったマスク構造体に対し、四角窓2の両対角線の実質的な延長上にある支持フレーム外周の4箇所を加圧点4〜7として力を加え、且つ各加圧点4〜7を中心として力のベクトルの角度を調整して力を加え、加圧点の一部について、互いに直交する2方向の加圧用に分けて加圧点を設け、力のベクトルの一部について、四角窓2の辺に平行なX軸方向とY軸方向に力を分解して支持フレーム1に力を加えることも可能である。

請求項（抜粋）：

マスクパターンを形成したマスク基板と四角窓を有するリング状の支持フレームを持ったマスク構造体に対し、前記四角窓の両対角線の実質的な延長上にある支持フレーム外周の4箇所を加圧点として力を加え、且つ前記加圧点を中心として力のベクトルの角度を調整することを特徴とするマスクパターン偏倍方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 531 E ,  H01L 21/30 531 M ,  H01L 21/30 502 G

Fターム (8件)：

5F046AA28 ,  5F046BA02 ,  5F046DA16 ,  5F046DD06 ,  5F046GA02 ,  5F046GA12 ,  5F046GA14 ,  5F046GD04