特許

J-GLOBAL ID：200903097081739683

光化学的に酸を発生するフォトレジスト用化合物

発明者： トーマス エー.コーイス
出願人/特許権者： モートン インターナショナル,インコーポレイティド
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-004482
公開番号（公開出願番号）：特開平6-256292
出願日： 1994年01月20日
公開日（公表日）： 1994年09月13日
要約：

【要約】【目的】 放射線分解の際に酸を発生する新規化合物を提供する。【構成】 下式を有するジアゾキノンスルホニルエステル。【化1】(式中、Rは水素、ヒドロキシル、又は-O-S(=O)2-Q 部分であり、R1 はCH2OS(=O)2-Q又は-NO2であり、R2 はCH2OS(=O)2-Q又は-NO2であり、R3 は低級アルキル又は水素であり、R4 は水素、CH2OS(=O)2-Q又は-NO2であり、R5 は水素、CH2OS(=O)2-Q又は-NO2であり、Qはジアゾナフトキノン部分であり、但しR2 及びR4 がNO2 である場合R3 は低級アルキルであり、R1 とR2 は同一ではなくかつR4 とR5 は同一ではない)

請求項（抜粋）：

下式【化1】(上式中、Rは水素、ヒドロキシル、又は-O-S(=O)2-Q部分であり、R1 はCH2 OS(=O)2-Q又は-NO2 であり、R2 はCH2 OS(=O)2-Q又は-NO2 であり、R3 は低級アルキル又は水素であり、R4 は水素、CH2 OS(=O)2-Q又は-NO2 であり、R5 は水素、CH2 OS(=O)2-Q又は-NO2 であり、Qはジアゾナフトキノン部分であり、但しR2 及びR4 がNO2 である場合R3 は低級アルキルであり、R1 とR2 は同一ではなくかつR4 とR5 は同一ではない)を有するジアゾキノンスルホニルエステル。

IPC (6件)：

C07C309/71 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/031 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 561