特許
J-GLOBAL ID：200903097088162748

高滑水性被膜及びその製造方法

発明者：
赤松 佳則

赤松 佳則 について

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公文 創一

公文 創一 について

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濱口 滋生

濱口 滋生 について

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荒井 宏明

荒井 宏明 について


出願人/特許権者：
セントラル硝子株式会社

セントラル硝子株式会社 について


代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-037626
公開番号（公開出願番号）：特開2003-238204
出願日： 2002年02月15日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：
【要約】【課題】 耐酸性および対摩耗性に優れた高い撥水耐久性と優れた滑水性(水滴滑落性)を有する高滑水性被膜を得ること。【解決手段】 被膜のマトリックスとしてのシリカ中に、アルコキシ末端ジメチルシリコーンとフルオロアルキルシランとの混合物を滑水成分として分散させ、アルコキシ基が結合するケイ素原子とジメチルシロキサン鎖末端のケイ素原子が酸素またはメチレン基を介して結合するジメチルシリコーンによりマトリックス中の滑水成分の保持性を向上させるとともに、該マトリックス中に耐久性に優れたフルオロアルキルシランを導入することによりさらに耐久性の優れた高滑水性被膜を形成すること。
請求項（抜粋）：
シリカマトリックス中に、一般式[1]で表されるアルコキシ末端ジメチルシリコーンと一般式[2]で表されるフルオロアルキルシランとの混合物が滑水成分として分散されてなることを特徴とする高滑水性被膜。【化1】ここで、Xは-ORまたは-R'Si(OR)r(CH3)3-r(Rは1価のアルキル基、R'は2価のアルキレン基、rは1〜3の整数)で表されるアルコキシ基またはアルコキシ基含有基、p、qは1〜3の整数、nは2000以下の整数を示す。【化2】ここで、sは0〜11の整数、tは1〜3の整数、Zは加水分解性基を示す。
IPC (2件)：
C03C 17/30 ,  C09D183/04
FI (2件)：
C03C 17/30 B ,  C09D183/04
Fターム (15件)：
4G059AA01 ,  4G059AC22 ,  4G059AC30 ,  4G059FA05 ,  4G059FA22 ,  4G059FB06 ,  4J038DL071 ,  4J038GA12 ,  4J038HA446 ,  4J038KA08 ,  4J038NA07 ,  4J038PA19 ,  4J038PB05 ,  4J038PB07 ,  4J038PC03
引用特許：
審査官引用 (4件)
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