特許

J-GLOBAL ID：200903097090094113

洗浄組成物及び洗浄方法

発明者： 富谷 学
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-116356
公開番号（公開出願番号）：特開平9-302391
出願日： 1996年05月10日
公開日（公表日）： 1997年11月25日
要約：

【要約】【課題】 金属加工部品、ガラス加工部品、セラミック加工部品、シリコンウエハー等を良好に洗浄する。【解決手段】 100重量部の全体に対して、非イオン系界面活性剤が0.2〜20重量部、水が0.1〜10重量部、残部が非水系溶剤からなり、10〜90°Cの温度範囲内に曇点を有し、曇点以上の温度ではW/O型エマルジョンとなっている洗浄組成物を用い、曇点以上の温度で被洗浄物を洗浄し、洗浄組成物の曇点以下の温度ですすぎ液によって置換する。

請求項（抜粋）：

100重量部の全体に対して、ポリオキシエチレン基を有する非イオン系界面活性剤が0.2〜20重量部、水が0.1〜10重量部、残部が非水系溶剤からなり、10〜90°Cの温度範囲内に曇点を有し、曇点以上の温度ではW/O型エマルジョンとなっていることを特徴とする洗浄組成物。

IPC (7件)：

C11D 10/02 ,  C23G 5/032 ,  C23G 5/06 ,  H01L 21/304 341 ,  H05K 3/26 ,  C11D 1:72 ,  C11D 3:42

FI (5件)：

C11D 10/02 ,  C23G 5/032 ,  C23G 5/06 ,  H01L 21/304 341 L ,  H05K 3/26 E