特許

J-GLOBAL ID：200903097127210259

感光剤の製造方法およびこの感光剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 梅村 光雄 ,  小林 美貴
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-032791
公開番号（公開出願番号）：特開平10-221846
出願日： 1997年01月31日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 レジスト性能の感度および解像度に優れたポジ型フォトレジスト組成物、特に高感度で、露光前後のアルカリ溶解速度差の大きい感光剤の製造方法およびこれを含有する高解像度ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 メチレンテトラ-p-クレゾールと、1,2ナフトキノン-2-ジアジド-5-スルホニルクロライドとを、ジメチルアセトアミドを溶媒として、トリエチレンジアミンの存在下でエステル化反応させた後、反応液を塩酸水溶液に注ぎ込み、生じた沈殿生成物をろ別、水洗し、乾燥する感光剤の製造方法、および該感光剤とアルカリ可溶性樹脂とから成るポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

下記一般式I、【化1】で表されるメチレンテトラ-p-クレゾール1モルに対して、1,2ナフトキノン-2-ジアジド-5-スルホニルクロライドを2.5モル以上4.5モル以下の割合で添加し、ジメチルアセトアミドを溶媒として、トリエチレンジアミンの存在下でエステル化反応させた後、反応液を塩酸水溶液に注ぎ込み、生じた沈殿生成物をろ別、水洗し、乾燥することを特徴とする感光剤の製造方法。

IPC (3件)：

G03F 7/022 601 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/022 601 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/30 502 R