特許

J-GLOBAL ID：200903097129505914

露光装置、コートデベロップ装置、デバイス製造システム、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法

発明者： 塚本 泉 ,  鵜澤 繁行
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 大塚 康徳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-134473
公開番号（公開出願番号）：特開2002-057100
出願日： 2001年05月01日
公開日（公表日）： 2002年02月22日
要約：

【要約】【課題】 露光装置内部の清浄度を低下させずに、ウエハの搬入出を行う。レジスト劣化に起因する像性能の劣化を低減する。【解決手段】 コート・ディベロップ装置と露光装置の間でウエハの授受を行うポート機構の内部を真空にし、所定の雰囲気ガスを導入する。ウエハを露光装置へ搬入出する際に、必要に応じてウエハの加熱・冷却を行う。

請求項（抜粋）：

原版のパターンをウエハに露光する露光装置であって、該露光装置内の所定の空間を囲むチャンバーと、該露光装置内の雰囲気を調整するための空調機と、ロードロック機構を有するポート部と、を有することを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/38 ,  H01L 21/68

FI (7件)：

G03F 7/20 521 ,  G03F 7/38 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 516 E ,  H01L 21/30 516 F

Fターム (33件)：

2H096AA00 ,  2H096AA25 ,  2H096CA12 ,  2H096DA01 ,  2H096EA00 ,  2H096EA27 ,  2H096FA01 ,  2H096GA21 ,  2H096GB10 ,  5F031CA02 ,  5F031CA07 ,  5F031FA01 ,  5F031FA04 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031MA06 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031NA09 ,  5F031PA02 ,  5F031PA23 ,  5F046AA17 ,  5F046AA22 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046DA26 ,  5F046DA27 ,  5F046JA22 ,  5F046KA07 ,  5F046LA11 ,  5F046LA18