特許
J-GLOBAL ID：200903097131936019
生産管理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡▲崎▼ 信太郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-258456
公開番号（公開出願番号）：特開2000-091178
出願日： 1998年09月11日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：
【要約】【課題】 歩留まりの変動による半導体製品の生産量の影響を最小限に抑えて、生産管理を適切にするとともに、歩留まりの低下を抑えることができる生産管理方法を提供すること。【解決手段】 半導体製造装置10で製造されたチップを検査するために測定される電気的特性ECと、前記予定歩留まりとの相関関係を解析して、前記電気的特性ECと、前記ウェハ上に電気素子を形成する際に得られるデータであって、複数のパラメータを有する工程内生産管理データIPQCとの相関関係を解析して、前記電気的特性ECと前記予定歩留まりの相関関係と、前記電気的特性ECと前記工程内生産管理データIPQCの相関関係に基づいて、前記工程内生産管理データIPQCと前記予定歩留まりとの関係を解析して、前記工程内生産管理データIPQCに基づいて前記予定歩留まりを算出し、ウェハの投入する数量を制御する。
請求項（抜粋）：
歩留まりの発生を予め予測して予定歩留まりを算出し、前記予定歩留まりに基づいて半導体製造装置に所定のウェハを投入して、半導体製品の生産量を制御する生産管理方法において、前記半導体製造装置で製造されたチップを検査するために測定される電気的特性と、前記予定歩留まりとの相関関係を解析して、前記電気的特性と、前記ウェハ上に電気素子を形成する際に得られるデータであって、複数のパラメータを有する工程内生産管理データとの相関関係を解析して、前記電気的特性と前記予定歩留まりの相関関係と、前記電気的特性と前記工程内生産管理データの相関関係に基づいて、前記工程内生産管理データと前記予定歩留まりとの関係を解析して、前記工程内生産管理データに基づいて前記予定歩留まりを算出し、ウェハの投入する数量を制御することを特徴とする生産管理方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/02 Z
, G06F 15/21 R
5B049CC21
, 5B049CC23
, 5B049CC24
