特許
J-GLOBAL ID：200903097142884223
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-105407
公開番号（公開出願番号）：特開平9-293660
出願日： 1996年04月25日
公開日（公表日）： 1997年11月11日
要約：
【要約】【課題】 多点の焦点位置検出系を使用したときに、一部の計測点が欠けていても、スループットを低下させることなく、高精度に合焦を行う。【解決手段】 照射光学系29、及び受光光学系30からなる多点の焦点位置検出系の複数の焦点位置の計測点の内で、計測値の信頼性の高い有効な計測点を判定する主制御装置18と、主制御装置18によって有効であると判定された計測点での焦点位置検出系による29,30による検出信号に基づいてZチルトステージ4の動作を制御するオートフォーカス系コントローラ31とを設ける。主制御装置18は、予め複数の計測点の内で、検出結果の信頼性の高い計測点の配置を複数の配置に場合分けし、複数の配置をそれぞれ異なる複数のパラメータに対応させて記憶しておいて、判定を行う。
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンの像を感光基板上に投影する投影光学系と、前記感光基板を前記投影光学系の光軸に垂直な平面内で移動する基板ステージと、前記感光基板の前記投影光学系の光軸方向の位置を調整する高さ調整ステージと、前記投影光学系の露光フィールド、又は該露光フィールドの近傍の複数の計測点で前記感光基板の表面の前記投影光学系の光軸方向の位置を検出する多点の焦点位置検出系と、を備え、該焦点位置検出系の検出結果に基づいて前記高さ調整ステージを介して前記感光基板の表面を前記投影光学系の結像面に合わせ込んで、前記感光基板上の各ショット領域に前記マスクのパターン像を露光する投影露光装置において、前記感光基板上の各ショット領域の位置と前記感光基板の有効露光領域との関係に基づいて、前記焦点位置検出系の複数の計測点の内で、計測値の信頼性の高い有効な計測点を判定する判定手段と、該判定手段によって有効であると判定された計測点での前記焦点位置検出系による計測値に基づいて前記高さ調整ステージの動作を制御する制御手段と、を設けたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 526 A
, G03F 7/207 H
, H01L 21/30 515 G
