特許

J-GLOBAL ID：200903097152943767

露光方法及び該露光方法で使用されるフォトマスク

発明者： 松本 宏一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-035250
公開番号（公開出願番号）：特開平6-250378
出願日： 1993年02月24日
公開日（公表日）： 1994年09月09日
要約：

【要約】【目的】 コンタクトホール等のような明るい孤立したパターンを十分な焦点深度で露光する。【構成】 フォトマスク上の開口部の表面21を遮光膜12のエッジ部を超えない範囲で凸又は凹の曲面状に形成し、透明基板11の屈折率をn、透明基板11上のその開口部の幅をW、その開口部の曲面状の表面21の曲率半径をRとしたとき、照明光学系の開口数NAが、次の関係をほぼ満足する状態で、そのフォトマスクを照明する。NA=W・n・(n-1)/(2|R|)

請求項（抜粋）：

透明基板上に所定の透過部を囲むように遮光部材を配置してなるフォトマスクを照明光学系からの照明光で照明し、前記フォトマスク上の前記所定の透過部のパターンの像を基板上に露光する方法において、前記フォトマスク上の前記透過部の表面を前記遮光部材のエッジ部を超えない範囲で凸又は凹の曲面状に形成し、前記透明基板の屈折率をn、前記透明基板上の前記透過部の幅をW、前記透過部の曲面状の表面の曲率半径をRとしたとき、前記照明光学系の開口数NAが、NA=W・n・(n-1)/(2|R|)の関係をほぼ満足する状態で、前記フォトマスクを照明することを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027