特許

J-GLOBAL ID：200903097154141315

潜像転写方式の電子写真方法およびその装置

発明者： 杉本 浩之 ,  山口 剛男 ,  高橋 裕幸
出願人/特許権者： 株式会社リコー
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-052172
公開番号（公開出願番号）：特開平9-244276
出願日： 1996年03月08日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 長時間にわたって安定した転写電位の得られる潜像転写方式の電子写真方法と装置を得る。【解決手段】 逐次潜像転写方式の電子写真方法において、感光体が導電性基体上に直接または下引き層を介して単層の有機感光層を設けてなり、感光層は少なくとも電荷発生顔料、有機正孔移動物質および下記化1で表される有機アクセプタ性化合物が結着剤中に分散された構成からなるとともに潜像転写を繰り返すごとに感光層表面を摺擦研磨することを特徴とする潜像転写方式の電子写真方法。また、感光体表面に接離する摺擦研磨手段を設けた電子写真装置。例えば

請求項（抜粋）：

電子写真感光体上に静電潜像を形成した後に、該感光体の表面側に静電記録体を接触させ、該感光体と該記録体との間に電圧を印加して該記録体上に該感光体に対応した静電潜像を転写し、しかる後に該記録体上の静電潜像を可視化する潜像転写方式の電子写真方法において、前記感光体が導電性基体上に直接または下引き層を介して単層の有機感光層を設けてなり、該感光層は少なくとも電荷発生顔料、有機正孔移動物質および下式化1で表される有機アクセプタ性化合物が結着剤中に分散された構成からなるとともに潜像転写を繰り返すごとに該感光体表面を摺擦研磨することを特徴とする潜像転写方式の電子写真方法。【化1】上式中、R1、R4は同一または異なる、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換の芳香族基、置換もしくは無置換の複素環基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のカルバモイル基、置換もしくは無置換のアシル基、シアノ基、ニトロ基およびハロゲン原子よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基を表す。また、R2とR3は同一まはた異なる、水素原子、置換もしくはアルキル基、置換もしくは無置換の芳香族基および置換もしくは無置換の複素環基から選ばれた少なくとも1種の基を表す。また、R1とR2は結合して環を形成してもよく、同様にR3とR4は結合して複素環を形成してもよく、さらに、これらの環は置換されていてもよい。Xは=O、下式化2および化3で表される基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基を表す。【化2】【化3】上式化2において、A1、B1は同一または異なる、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換もしくは無置換の芳香族基および-COOR6よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基を表す。また、上式化3において、R5は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換の芳香族基またはシアノ基を表す。前記R6は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換の芳香族基を表す。

IPC (4件)：

G03G 5/05 104 ,  G03G 5/06 311 ,  G03G 5/06 330 ,  G03G 15/18

FI (4件)：

G03G 5/05 104 B ,  G03G 5/06 311 ,  G03G 5/06 330 ,  G03G 15/18