特許

J-GLOBAL ID：200903097155649401

流体分離フィルタ及びその製造方法

発明者： 佐郷 文昭
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-234010
公開番号（公開出願番号）：特開2003-047831
出願日： 2001年08月01日
公開日（公表日）： 2003年02月18日
要約：

【要約】【課題】水分の影響が少なく、透過特性の変化が少なく信頼性に優れた流体分離フィルタを提供する。【解決手段】a)金属アルコキシドを加水分解して前駆体ゾルを作製する工程と、(b)該前駆体ゾルを多孔質支持体の表面の少なくとも一方に塗布して乾燥した後、焼成して前記多孔質支持体の少なくとも一方の表面に環状のシロキサン結合及びシラノール基によって形成された複数の細孔を有する酸化物膜を形成する工程と、(c)前記酸化物膜を150〜500°Cの水蒸気に曝露する工程とを具備することを特徴とするもので、これにより、酸化物膜の多数の細孔内壁内に予め水を均一に吸着せしめることができ、耐水性及び経時的信頼性に優れた流体分離フィルタを得ることができる。

請求項（抜粋）：

(a)金属アルコキシドを加水分解して前駆体ゾルを作製する工程と、(b)該前駆体ゾルを多孔質支持体の表面の少なくとも一方に塗布して乾燥した後、焼成して前記多孔質支持体の少なくとも一方の表面に環状のシロキサン結合及びシラノール基によって形成された複数の細孔を有する酸化物膜を形成する工程と、(c)前記酸化物膜を150〜500°Cの水蒸気に曝露する工程とを具備することを特徴とする流体分離フィルタの製造方法。

IPC (7件)：

B01D 71/02 ,  B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/70 ,  B01D 71/70 500 ,  H01M 8/06

FI (7件)：

B01D 71/02 ,  B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/70 ,  B01D 71/70 500 ,  H01M 8/06 R

Fターム (30件)：

4D006GA02 ,  4D006GA41 ,  4D006MA02 ,  4D006MA06 ,  4D006MA22 ,  4D006MA24 ,  4D006MA33 ,  4D006MA40 ,  4D006MB03 ,  4D006MB04 ,  4D006MC01 ,  4D006MC03 ,  4D006MC09X ,  4D006MC65X ,  4D006NA39 ,  4D006NA46 ,  4D006NA50 ,  4D006NA61 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB18 ,  4D006PB19 ,  4D006PB62 ,  4D006PB64 ,  4D006PC11 ,  4D006PC41 ,  4D006PC80 ,  5H027AA02 ,  5H027BA16 ,  5H027BC06