特許

J-GLOBAL ID：200903097165694189

描画用アライメントマークを有する位相シフトマスク

発明者： 藤田 浩
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-266454
公開番号（公開出願番号）：特開2000-098583
出願日： 1998年09月21日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】 描画装置側や最適化されたレジスト工程に影響を与えずに高精度なアライメント描画を可能にする高精度な描画用アライメントマーク。【解決手段】 低反射型遮光層4に遮光パターン5と描画用アライメントマーク6’が設けられ、その遮光層4の下に位相シフトパターンが設けられた位相シフトマスクにおいて、遮光層4の描画用アライメントマーク6部の反射率が、低反射層3を除去してその下層にある高反射層2を露出させるか、その部分の上に選択的に高反射層を設けて反射率が選択的に高められている。

請求項（抜粋）：

低反射型遮光層に遮光パターンと描画用アライメントマークが設けられ、その遮光層の下に位相シフトパターンが設けられた位相シフトマスクにおいて、前記遮光層の描画用アライメントマーク部の反射率が選択的に高められていることを特徴とする描画用アライメントマークを有する位相シフトマスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 N ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 502 M ,  H01L 21/30 528

Fターム (12件)：

2H095BB03 ,  2H095BC08 ,  2H095BC11 ,  2H095BE03 ,  2H095BE09 ,  2H095BE10 ,  5F046AA25 ,  5F046BA08 ,  5F046EA18 ,  5F046EB02 ,  5F046FA05 ,  5F046FA10