特許

J-GLOBAL ID：200903097181658770

洗浄方法

発明者： 小島 泉里
出願人/特許権者： 野村マイクロ・サイエンス株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-095491
公開番号（公開出願番号）：特開2000-288495
出願日： 1999年04月01日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
要約：

【要約】【課題】 洗浄効率が高く、廃液中の有害成分残存量を低減して純水製造装置の原水として利用できる洗浄方法を提供する。【解決手段】 洗浄槽の内槽101内に純水、所望によりハロゲン化アルカリ金属塩などの洗浄除剤からなる洗浄液を満たし、この洗浄液に対し、槽外部からオゾンと過酸化水素とを供給して溶解する。このオゾンと過酸化水素とが溶解した洗浄液に超音波を作用させる。そのとき洗浄液のpHを6〜8に調整することにより、多量のOHラジカルが生成する。OHラジカルはウエハW表面に付着した有機物の除去を促進する作用と、洗浄液中に遊離した有機物を分解する作用とを併せ持つので、洗浄力の向上に加え、洗浄後の洗浄液の有機物分低減化をも図ることができる。そのため使用後の洗浄液は純水製造装置の原水として容易にリサイクルできる。

請求項（抜粋）：

オゾン、及び過酸化水素を含む洗浄液を用いて、前記洗浄液に超音波を照射しながら被処理基体の洗浄を行う方法において、pH調整剤の添加により前記洗浄液のpHを6〜8に調整することを特徴とする洗浄方法。

IPC (6件)：

B08B 3/12 ,  B08B 3/08 ,  H01L 21/304 647 ,  C02F 1/36 ,  C02F 1/72 ,  C02F 1/78

FI (6件)：

B08B 3/12 A ,  B08B 3/08 Z ,  H01L 21/304 647 Z ,  C02F 1/36 ,  C02F 1/72 Z ,  C02F 1/78

Fターム (24件)：

3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB02 ,  3B201BB82 ,  3B201BB85 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB98 ,  3B201CB15 ,  3B201CC01 ,  4D037AA03 ,  4D037AA08 ,  4D037AB02 ,  4D037BA26 ,  4D037CA12 ,  4D037CA14 ,  4D050AA05 ,  4D050AA13 ,  4D050AB11 ,  4D050AB14 ,  4D050AB18 ,  4D050BB02 ,  4D050BC09 ,  4D050CA13