特許
J-GLOBAL ID:200903097191335073

色素増感太陽電池の製造方法、及び太陽電池

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-246436
公開番号(公開出願番号):特開2003-059545
出願日: 2001年08月15日
公開日(公表日): 2003年02月28日
要約:
【要約】【課題】色素増感太陽電池の製造方法において、金属酸化物半導体形成法の低温化、金属酸化物半導体層の高純度化、製造工程の短縮化、及び製造コストの縮小化を同時に達成する方法を提供する。【解決手段】少なくとも基板上に透明導電層、色素を吸着させた多孔質の金属酸化物半導体層、電荷輸送層、導電性触媒層及び/または導電層を順に形成してなる色素増感太陽電池の製造方法において、前記金属酸化物半導体層が真空成膜法を用いて製造されることを特徴とする色素増感太陽電池の製造方法を提供するものである。
請求項(抜粋):
少なくとも基板上に透明導電層、色素を吸着させた多孔質の金属酸化物半導体層、電荷輸送層、導電性触媒層及び/または導電層を順に形成してなる色素増感太陽電池の製造方法において、前記金属酸化物半導体層が真空成膜法を用いて製造されることを特徴とする色素増感太陽電池の製造方法。
IPC (2件):
H01M 14/00 ,  H01L 31/04
FI (2件):
H01M 14/00 P ,  H01L 31/04 Z
Fターム (7件):
5F051AA14 ,  5H032AA06 ,  5H032AS16 ,  5H032BB10 ,  5H032EE02 ,  5H032EE04 ,  5H032EE16

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