特許
J-GLOBAL ID:200903097196773290
レジンダスト付着防止処理を施した銅箔又は銅合金箔及びレジンダスト付着防止方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小越 勇
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-100091
公開番号(公開出願番号):特開2004-307888
出願日: 2003年04月03日
公開日(公表日): 2004年11月04日
要約:
【課題】エポキシ樹脂等を主成分とする絶縁性プリプレグとの積層工程において、レジンダストを効果的に防止し、それによって積層銅箔のエッチングに際して良好なパターン特性(パターン精度が良い)を得る。【解決手段】銅箔の光沢面をテトラエトキシシラン又はテトラメトキシシランを含有する溶液で処理し、テトラエトキシシラン又はテトラメトキシシランのレジンダスト付着防止膜を形成することを特徴とする銅箔又は銅合金箔のレジンダスト付着防止方法。
請求項(抜粋):
銅箔の少なくとも片面にテトラエトキシシラン又はテトラメトキシシランからなるレジンダスト付着防止処理を施した銅箔又は銅合金箔。
IPC (3件):
C23C26/00
, B32B15/08
, H05K1/09
FI (5件):
C23C26/00 A
, C23C26/00 Z
, B32B15/08 J
, B32B15/08 Z
, H05K1/09 D
Fターム (28件):
4E351AA03
, 4E351BB01
, 4E351DD04
, 4E351DD56
, 4E351GG20
, 4F100AB17A
, 4F100AB31A
, 4F100AB33A
, 4F100AK52B
, 4F100AK53
, 4F100BA02
, 4F100BA03
, 4F100BA10B
, 4F100DH01
, 4F100EH462
, 4F100EH612
, 4F100EJ082
, 4F100EJ422
, 4F100GB43
, 4F100JL00
, 4F100JL06B
, 4K044AA06
, 4K044AB02
, 4K044BA06
, 4K044BB01
, 4K044BC14
, 4K044CA53
, 4K044CA62
引用特許:
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