投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-055246
公開番号（公開出願番号）：特開平6-267825
出願日： 1993年03月16日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：

【要約】【目的】混在レチクル上の全てのパターンの像を良好な結像特性のもとでウエハ上に露光可能とする。【構成】レチクルRに形成されたバーコードBCをバーコードリーダー52で読み取ることにより、レチクルR上の複数のパターン領域PA1 、PA2 の各々の形成条件(パターンの種類、微細度、照明条件等)を主制御装置50に入力する。主制御装置50は、この入力した形成条件に基づいてパターン領域PA1 、PA2 の各々に最適な焦点位置B.F.を算出する。

請求項（抜粋）：

光源からの照明光をほぼ均一な強度分布に成形してマスクに照射する照明光学系と、前記マスクに形成されたパターンの像を感光基板上に結像投影する投影光学系と、前記投影光学系の結像特性の補正を行う結像特性補正手段とを備えた投影露光装置において、前記マスク上に存在する相異なる複数のパターン領域の各々の形成条件に関する情報を入力する入力手段と;該入力した情報に基づいて前記複数のパターン領域の各々に共通な前記結像特性補正手段の補正量を算出する演算手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03B 27/32 , G03F 7/20 521 , G03F 9/02

引用特許：

出願人引用 (6件)

特開平4-130711
特開平1-147458
特開平1-283925

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