特許

J-GLOBAL ID：200903097208688927

感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び半導体装置

発明者： ▲廣▼ 昌彦 ,  小島 康則 ,  宮坂 昌宏
出願人/特許権者： 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-303825
公開番号（公開出願番号）：特開2000-131838
出願日： 1998年10月26日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 優れた感光特性を示し、高解像度で残膜率に優れ、イミド化時の揮散性と硬化膜の特性が良好であり、かつ優れたプロセス安定性を示す感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 (A)下記一般式(I)で示される化合物、(B)ポリイミド前駆体、(C)光重合開始剤、及び、(D)環に結合する水素原子が置換基により置換されていてもよい、ベンゾキノン化合物、フェノール化合物、カテコール化合物、レゾルシノール化合物及びハイドロキノン化合物から選択される化合物を含有してなる感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物の塗膜上にパターンを描いたマスク上から活性光線を照射し、未照射部を現像除去することを特徴とするレリーフパターンの製造法。(式中、R及びR′は、各々独立に水素原子、メチル基、エチル基又はプロピル基であり、R′′は水素原子又はメチル基であり、nは2、3又は4である)

請求項（抜粋）：

(A)一般式(I)【化1】(式中、R及びR′は、各々独立に水素原子、メチル基、エチル基又はプロピル基であり、R′′は水素原子又はメチル基であり、nは2、3又は4である)で示される化合物、(B)ポリイミド前駆体、(C)光重合開始剤、及び、(D)環に結合する水素原子が置換基により置換されていてもよい、ベンゾキノン化合物、フェノール化合物、カテコール化合物、レゾルシノール化合物及びハイドロキノン化合物から選択される化合物を含有してなる感光性樹脂組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/028 ,  G03F 7/004 502 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/027 514 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/037 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/028 ,  G03F 7/004 502 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/027 514 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/037 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (22件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA07 ,  2H025AA08 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BC14 ,  2H025BC34 ,  2H025BC69 ,  2H025CA00 ,  2H025CA20 ,  2H025CA28 ,  2H025CA39 ,  2H025CA41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA29