特許
J-GLOBAL ID：200903097218319954
ウェハ表面検査装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-306286
公開番号（公開出願番号）：特開平6-132370
出願日： 1992年10月20日
公開日（公表日）： 1994年05月13日
要約：
【要約】【目的】 一度に複数枚のウェハについて、その表面に付着した異物微粒子(パーティクル)を検査する。【構成】 ポジションA〜Hに8枚のウェハ50をセット可能なウェハ・ステージ1をモータ3により矢印W方向に線速度一定で高速回転させた状態で、レーザ光源4からの光を走査ミラー6でシフトさせながらウェハ面を走査し、異物に起因する散乱光を光電子増倍管8に集光して検出する。ウェハ・ステージ1が1回転する間に8枚のウェハ50全ての面上でビーム・スポットの軌跡l1 が順次円弧状に形成される。【効果】 装置予算と占有床面積を低減でき、スループットが向上する。各ウェハのポジションをプロセスごとに指定することでクロス・コンタミネーションが防止できる。
請求項（抜粋）：
複数のウェハを載置可能なウェハ・ステージと、このウェハ・ステージに所定方向の周期運動を与える駆動手段と、前記ウェハの主面上でレーザ光を走査しながら該主面上の異物に起因する散乱光を検出する検査光学系とを備え、前記ウェハ・ステージの周期運動の1周期内における前記レーザ光のビーム・スポットの軌跡が複数のウェハ上にわたって形成されるようになされたウェハ表面検査装置。
IPC (3件)：
H01L 21/66
, G01N 21/88
, H01S 3/00
