特許
J-GLOBAL ID：200903097231595820
プラズマディスプレイパネルの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉村 博文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-107599
公開番号（公開出願番号）：特開平6-295676
出願日： 1993年04月08日
公開日（公表日）： 1994年10月21日
要約：
【要約】【目的】 フォトリソグラフィ法による障壁形成時のパターン幅の高精細化におけるパネルへの残渣や異物の付着を防止でき、また印刷法による障壁形成時のパターン幅におけるパターン位置精度を向上させると共に、パターン底部の滲みを抑えることができ、パターン幅の高精細化、ディスプレィの大画面化を可能にしたプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。【構成】 一定の空間を隔てて一対の絶縁板を配し、該絶縁板の内側に相対向して交差するアノード電極群とカソード電極群を設け、かつ該両電極群間に障壁を形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法において、上記絶縁板上に開口部を備えた樹脂被膜を形成する被膜形成工程と、該樹脂被膜の開口部に所望高さの障壁パターンを形成する障壁パターン形成工程と、該障壁パターン形成後、該樹脂被膜を除去する樹脂被膜除去工程と、該障壁パターンを焼成する障壁パターン焼成工程を有する構成よりなる。
請求項（抜粋）：
一定の空間を隔てて一対の絶縁板を配し、該絶縁板の内側に相対向して交差するアノード電極群とカソード電極群を設け、かつ該両電極群間に障壁を形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法において、上記絶縁板上に開口部を備えた樹脂被膜を形成する被膜形成工程と、該樹脂被膜の開口部に所望高さの障壁パターンを形成する障壁パターン形成工程と、該障壁パターン形成後、該樹脂被膜を除去する樹脂被膜除去工程と、該障壁パターンを焼成する障壁パターン焼成工程を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
IPC (3件)：
H01J 9/24
, H01J 17/04
, H01J 17/49
