特許

J-GLOBAL ID：200903097235669527

光学部品用洗浄剤組成物

発明者： 名越 英二 ,  野澤 雅紀
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 羽鳥 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-244832
公開番号（公開出願番号）：特開平6-093295
出願日： 1992年09月14日
公開日（公表日）： 1994年04月05日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 すすぎ性に優れ、且つ環境汚染の惧れがなく、しかも安全性の高い、光学部品あるいはその製造工程に用いられる治工具類用の洗浄剤組成物の提供。【構成】 (A)化合物I及び(B)化合物IIを含有し、その配合比率(重量比)が(A)成分/(B)成分=90/10〜5/95である。R1(X)R2 I(式中、R1は炭素数1〜24の炭化水素残基を示し、Xは-C(R3)(R4)-,-COO-,-CO-,-O-,-N(R1)-又は-C(=O)-N(R3)-基であり、R2は炭素数3〜18の炭化水素残基を示し、R3及びR4はH又は炭素数1〜18の炭化水素残基を示す。)R(Y)(AO)nR5 II(式中、Rは炭素数1〜8の炭化水素残基を示し、Yは-O-,-COO-,-NH-又はであり、mは1〜20の数を示し、Aは炭素数2〜4のアルキレン基を示し、nは1〜20の数を示し、R5はH又は炭素数1〜8の炭化水素残基を示す。)

請求項（抜粋）：

(A)下記〔化1〕表される化合物及び(B)下記〔化2〕で表される化合物を含有し、上記(A)成分と上記(B)成分との配合比率(重量比)が(A)成分/(B)成分=90/10〜5/95であることを特徴とする光学部品あるいはその製造工程に用いられる治工具類用の洗浄剤組成物。【化1】【化2】

IPC (9件)：

C11D 7/60 ,  C08K 5/06 ,  C08K 5/07 ,  C08K 5/10 ,  C08K 5/17 ,  C08K 5/20 ,  C08L 71/02 LQC ,  C11D 7:26 ,  C11D 7:32

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平4-057897
  
• 特開平4-036395