特許

J-GLOBAL ID：200903097242165267

清浄気体の調製方法および調製装置

発明者： 藤井 敏昭 ,  鈴木 作 ,  鈴木 英友
出願人/特許権者： 荏原インフィルコ株式会社 ,  株式会社荏原総合研究所
代理人 (1件)： 湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-145073
公開番号（公開出願番号）：特開平7-008752
出願日： 1993年06月16日
公開日（公表日）： 1995年01月13日
要約：

【要約】【目的】 基材または基板表面の汚染を防止するために、基材または基板表面と接触させる清浄気体を調製する方法とそのための装置を提供する。【構成】 被処理気体を除塵手段と吸着手段によって浄化することによって、気体中の微粒子濃度をクラス10以下で非メタン炭化水素濃度を0.2ppm以下とする工程からなり、前記吸着手段は、シリカゲル、合成ゼオライト、モレキュラシーブ、アルミナのうちから選択された少なくとも1種類の吸着材と、ガラス材とフッ素化合物のうちから選択された少なくとも1種類の吸着材とを組み合わせたものである。

請求項（抜粋）：

基材または基板表面の汚染を防止するために前記基材または基板表面と接触させる清浄気体を調製する方法であって、被処理気体を除塵手段と吸着手段によって浄化することによって、気体中の微粒子濃度をクラス10以下で非メタン炭化水素濃度を0.2ppm以下とする工程からなり、前記吸着手段は、シリカゲル、合成ゼオライト、モレキュラシーブ、アルミナのうちから選択された少なくとも1種類の吸着材と、ガラス材とフッ素化合物のうちから選択された少なくとも1種類の吸着材とを組み合わせてなる、清浄気体の調製方法。

IPC (5件)：

B01D 53/72 ,  B01D 46/52 ,  B01D 46/54 ,  B01D 53/26 ,  B01D 53/34 ZAB

FI (2件)：

B01D 53/34 120 D ,  B01D 53/34 ZAB