特許
J-GLOBAL ID：200903097258052136
静電チヤツク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-301834
公開番号（公開出願番号）：特開平5-008140
出願日： 1991年11月18日
公開日（公表日）： 1993年01月19日
要約：
【要約】【目的】 熱CVD装置等のような、高温、中高真空の条件下でも好適に使用でき、ウエハーの加熱処理時にウエハーの反りや歪みを防止してウエハー全面を均熱化することである。【構成】 膜状電極1が円盤状セラミックス基体4の主面4aに形成されている。この膜状電極1を覆うように、円盤状セラミックス基体4上に窒化珪素等からなる絶縁性誘電層2が形成され、一体化されている。これにより、膜状電極1はセラミックス基体4と絶縁性誘電層2との間に内蔵される。セラミックス基体4の内部には電極端子5が埋設され、この電極端子5の一端には膜状電極1が接続され、電極端子5の他端には電極ケーブル6が接続される。この電極ケーブル6は直流電源8の正極に接続され、直流電源8の負極がアース線7に接続される。絶縁性誘電層2は、気孔率3%以下、最大気孔の気孔径5μm以下のセラミックスからなる。
請求項（抜粋）：
電極の一主面を絶縁性誘電層で被覆して構成され、該絶縁性誘電層上に被吸着物を静電的に吸着する静電チャックにおいて、前記絶縁性誘電層が気孔率3%以下、最大気孔の気孔径5μm以下のセラミックスからなることを特徴とする静電チャック。
IPC (4件)：
B23Q 3/15
, B25J 15/06
, B65H 5/00
, H01L 21/68
