特許

J-GLOBAL ID：200903097276560491

プラズマ処理装置

発明者： 小笠原 正宏 ,  久保 輝明 ,  屋代 潤 ,  田原 好文
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-193206
公開番号（公開出願番号）：特開平6-013344
出願日： 1992年06月26日
公開日（公表日）： 1994年01月21日
要約：

【要約】【目的】 被処理体の面内に渡って加工形状の均一化を図る。【構成】 処理容器8内に対向させて平行に設けた電極36、42の内の一方の電極、例えば上部電極42を被処理体Wに向けて突状に成形する。これにより、大口径化に伴うエッチング加工形状を被処理体Wの面内に渡って均一化する。

請求項（抜粋）：

処理容器内に相互に対向させて平行に設けられた2つの電極のいずれか一方に被処理体を載置して前記被処理体にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、前記被処理体に対向する電極は、前記被処理体に向けて突状に形成されることを特徴とするプラズマ処理装置。