特許
J-GLOBAL ID:200903097296090513

高温超伝導マルチフィラメントストランド及び該ストランドの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川口 義雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-104898
公開番号(公開出願番号):特開平10-050152
出願日: 1997年04月22日
公開日(公表日): 1998年02月20日
要約:
【要約】【課題】 改善されたフィラメントの減結合を有するHTc超電導マルチフィラメントストランド及びその廉価な製造方法。【解決手段】 本発明は複数の超伝導フィラメント(2)を含むHTc超伝導マルチフィラメントストランドに関し、各超伝導フィラメント(2)はAgシース(4)で包囲されたHTcセラミックコア(3)を含み、該シース自体は抵抗性合金(5)で包囲されている。更に、各フィラメントはAgシース(4)と抵抗性合金(5)の間に配置された絶縁性酸化物の中間層(6)を含む。
請求項(抜粋):
複数の高臨界温度(HTc)超伝導フィラメントを含むHTc超伝導マルチフィラメントストランドであって、各HTc超伝導フィラメントがHTc超伝導セラミックのコアを含み、該HTc超伝導セラミックのコアがAgシースで包囲されており、該シース自体は抵抗性合金で包囲されており、各HTc超伝導フィラメントがAgシースと抵抗性合金の間に配置された絶縁性酸化物の中間層を含むことを特徴とするHTc超伝導マルチフィラメントストランド。
IPC (2件):
H01B 12/10 ZAA ,  H01B 13/00 565
FI (2件):
H01B 12/10 ZAA ,  H01B 13/00 565 D

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