特許

J-GLOBAL ID：200903097313923346

電子線の露光方法

発明者： 中島 謙
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-239005
公開番号（公開出願番号）：特開平10-092708
出願日： 1996年09月10日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：

【要約】【課題】 同一線幅のパターン間に接続の生じない部分一括電子線露光用マスクを用いて部分一括電子線露光することにより、部分一括照射(ショット)間で生じる接続誤差を削除し、露光したレジストパターンの寸法精度向上を図る。【解決手段】 設計パターンデータから同一線幅のショット接続のない繰り返しパターンを部分一括用マスクデータMとして抽出する。このデータMを用いて部分一括電子線露光用マスク5を作製し、このマスク5を用いて繰り返し部分一括露光する。

請求項（抜粋）：

少なくともマスクデータ抽出処理を行なう電子線の露光方法であって、マスクデータ抽出処理は、部分一括電子線描画(ショット)境界で同一線幅によるパターン接続がない繰り返しパターンを設計パターンデータから抽出する処理であることを特徴とする電子線の露光方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00 ,  H01L 27/108 ,  H01L 21/8242

FI (3件)：

H01L 21/30 541 S ,  G03F 9/00 H ,  H01L 27/10 681 A

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 荷電粒子線転写装置,パターン分割方法,マスクおよび荷電粒子線転写方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-253907   出願人：株式会社ニコン