特許
J-GLOBAL ID：200903097319861261
ガス供給装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-337438
公開番号（公開出願番号）：特開平7-190300
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年07月28日
要約：
【要約】【目的】 本発明は圧縮したガスを充填タンクに充填するよう構成したガス供給装置を提供することを目的とする。【構成】 ガス供給装置1は、大略、都市ガスを所定圧力に昇圧する圧力発生ユニット4と、圧力発生ユニット4により圧縮されたガスを燃料タンク3に供給するためのディスペンサユニット5とよりなる。圧力発生ユニット4は、コンプレッサ12と、第1,第2の高圧ガス蓄圧器17,18と有し、第1の高圧ガス蓄圧器17のガスを下流側に供給した後、第2の高圧ガス蓄圧器18のガスを下流側に供給する。ディスペンサユニット5は、上流側より、開閉弁29と、1次圧力伝送器30と、流量計31と、圧力調整弁32と、2次圧力伝送器33と、が配設されている。着脱カプラ40,42が結合された後、第1,第2の高圧ガス蓄圧器17,18のガスが燃料タンク3に充填される。
請求項（抜粋）：
供給されたガスを圧縮するガス圧縮部と、該ガス圧縮部で圧縮されたガスを被充填タンクに充填するガス充填部とを有するガス供給装置において、前記ガス充填部は、前記ガス圧縮部に接続されたガス供給管路に上流側より該ガス供給管路を開閉する開閉弁,前記ガス供給管路を流れるガスの流量を計測する流量計,該流量計を通過して被充填タンクに充填されるガス供給量を調整する圧力調整弁の順に配設してなることを特徴とするガス供給装置。
IPC (3件)：
F17D 1/04
, B60S 5/02
, F17C 5/06
