特許

J-GLOBAL ID：200903097321587894

粒子の処理方法および分散物におけるその使用

発明者： アーティ・オーガスト・コスキ
出願人/特許権者： バイエル・インコーポレーテツド
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-583997
公開番号（公開出願番号）：特表2002-530500
出願日： 1999年11月22日
公開日（公表日）： 2002年09月17日
要約：

【要約】粒子を、アミノおよびシラン基を有する部分をインサイチューで形成することにより疎水化する。本発明は、親水性無機粒子とカップリング剤自体を反応させる必要が無く、カップリング剤の官能基を付与するための親水性無機粒子の処理に特に有用である。例えば、処理粒子をポリマーのための配合剤として使用することができる。

請求項（抜粋）：

粒子の処理方法であって、式(II)で表される粒状物質: P-R-X (II)〔式中、Pは粒子であり、Rはヒドロカルビルシロキシル基であり、Xはアニオンである。〕と硫黄含有化合物を接触させ、次式の1つまたはそれ以上で表される粒状物質:【化1】〔式中、nは1〜10の整数である。〕を製造する工程を含む方法。

IPC (4件)：

C09C 3/12 ,  C08K 9/06 ,  C08L101/00 ,  C09D 17/00

FI (4件)：

C09C 3/12 ,  C08K 9/06 ,  C08L101/00 ,  C09D 17/00

Fターム (55件)：

4J002AC011 ,  4J002AC031 ,  4J002AC061 ,  4J002AC071 ,  4J002AC081 ,  4J002AC091 ,  4J002AC111 ,  4J002BB031 ,  4J002BB061 ,  4J002BB121 ,  4J002BB151 ,  4J002BB181 ,  4J002BB241 ,  4J002BC031 ,  4J002BD041 ,  4J002BG061 ,  4J002BN151 ,  4J002CH041 ,  4J002CK021 ,  4J002CP031 ,  4J002DE106 ,  4J002DE116 ,  4J002DE126 ,  4J002DE146 ,  4J002DE156 ,  4J002DE236 ,  4J002DH046 ,  4J002DJ006 ,  4J002DK006 ,  4J002FB076 ,  4J002FB096 ,  4J002FD016 ,  4J002HA06 ,  4J037AA08 ,  4J037AA09 ,  4J037AA11 ,  4J037AA13 ,  4J037AA15 ,  4J037AA22 ,  4J037CA08 ,  4J037CB21 ,  4J037CB23 ,  4J037CC06 ,  4J037CC12 ,  4J037CC13 ,  4J037CC14 ,  4J037CC16 ,  4J037CC18 ,  4J037CC25 ,  4J037CC26 ,  4J037CC28 ,  4J037DD23 ,  4J037EE28 ,  4J037EE43 ,  4J037FF15