特許
J-GLOBAL ID:200903097330428286

重力制御装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 工業技術院物質工学工業技術研究所長
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-352327
公開番号(公開出願番号):特開平10-172825
出願日: 1996年12月12日
公開日(公表日): 1998年06月26日
要約:
【要約】【課題】 一般の研究室や工場において容器内に存在する物質の内部に低重力環境または過重力環境を形成しうる重力制御装置を提供する。さらに、低重力から過重力まで、容器内の物質に作用する見かけの重力を連続的に変化させることのできる重力制御装置を提供する。【解決手段】 磁場による上下方向の力を作用させる勾配磁場発生装置3を設け、容器1内の物質2に上下方向の磁場による力を作用させ、下向きの重力と相殺又は加算させることにより、低重力又は過重力環境を作る重力制御装置。
請求項(抜粋):
容器内の物質に対して、磁場による上向きの力を作用させる勾配磁場発生装置を設け、容器内の物質に上向きの磁場による力を作用させ、下向きの重力と相殺させることにより、物質の内部に低重力環境を作ることを特徴とする重力制御装置。
IPC (3件):
H01F 7/06 ,  B64G 7/00 ,  H01F 7/20
FI (3件):
H01F 7/06 B ,  B64G 7/00 A ,  H01F 7/20 F
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 磁束印加装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-099567   出願人:富士電気化学株式会社

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