特許
J-GLOBAL ID：200903097339124417
光ファイバの製造方法及び製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-289734
公開番号（公開出願番号）：特開2001-114525
出願日： 1999年10月12日
公開日（公表日）： 2001年04月24日
要約：
【要約】【課題】 レイリー散乱強度を低減し、伝送損失の低い光ファイバを製造するに際して、光ファイバ素線の量産に適用することが可能な光ファイバの製造方法を提供すること。【解決手段】 線引き炉11と徐冷用加熱炉21との間には、緩衝室41が設けられており、この緩衝室41の光ファイバ3の線引き方向における長さは、L1とされている。緩衝室41は、第1緩衝室42と第2緩衝室45とで構成されている。緩衝室41(第1緩衝室42及び第2緩衝室45)の内部空間は、線引き炉11(炉心管13)内の雰囲気ガスである第1ガスと、徐冷用加熱炉21(炉心管23)内の雰囲気ガスである空気とが混在している。
請求項（抜粋）：
光ファイバ母材を加熱線引きする光ファイバの製造方法であって、第1ガスからなる雰囲気にて前記光ファイバ母材を加熱線引きする線引き炉と、前記線引き炉との間に所定の間隙を有して設けられ、前記線引き炉にて前記線引きされた光ファイバを第2ガスからなる雰囲気にて加熱して徐冷する加熱炉と、を用い、前記線引き炉と前記加熱炉との間の前記間隙を、前記第1ガス及び前記第2ガスが混在するガス混在層とし、前記線引き炉にて前記線引きされた光ファイバを、前記ガス混在層を介して前記加熱炉に送り、前記熱処理炉において、前記線引きされた光ファイバを前記光ファイバの温度が1200〜1700°Cの範囲内の温度であるように加熱することを特徴とする光ファイバの製造方法。
IPC (3件)：
C03B 37/029
, C03B 37/027
, G02B 6/00 356
C03B 37/029
, C03B 37/027 A
, G02B 6/00 356 A
