特許
J-GLOBAL ID:200903097348636625

平面インダクターおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 武田 元敏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-166868
公開番号(公開出願番号):特開平7-022242
出願日: 1993年07月06日
公開日(公表日): 1995年01月24日
要約:
【要約】【目的】 コイル形状の導線を磁性体で被覆した平面インダクターを量産性良く実現すること。【構成】 第1の磁性体基板(NiZnフェライト基板1)上に磁気空隙(Al2O3膜)を形成した後にコイル形状導線3を形成し、コイル形状導線を覆うように第2の磁性体(NiZnフェライト層4)を形成する。
請求項(抜粋):
第1の磁性体基板上の絶縁体からなる非磁性膜上に形成したコイル形状の導線を絶縁体である第2の磁性体で被覆してなることを特徴とする平面インダクター。
IPC (2件):
H01F 17/00 ,  H01F 41/04

前のページに戻る