特許
J-GLOBAL ID：200903097351993668
NDフィルタの製造方法及びNDフィルタ、並びにこれらのNDフィルタを有する光量絞り装置及びカメラ
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-220776
公開番号（公開出願番号）：特開2004-061903
出願日： 2002年07月30日
公開日（公表日）： 2004年02月26日
要約：
【課題】各濃度において分光特性がフラットで、低反射率であり、膜厚が連続的に変化することによる光路長の違いから発生する透過位相差を補正することができるグラデーション濃度分布を有するNDフィルタを提供する。【解決手段】最表層以外の膜の成膜において、第1のスリット型マスク301を基板302と一体的にドーム上を公転させてグラデーション濃度分布をもつ第1層の膜を成膜すると共に、該第1のスリット型マスクと位置をずらせた第2のスリット型のマスク301’を用いて前記第1層とは逆方向のグラデーション濃度分布をもつ第2層から最表層手前の膜を成膜する一方、最表層の膜をこれらのマスクを用いずにグラデーション濃度分布を有するNDフィルタを製造する。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
基板上に少なくとも2種類以上の膜を成膜してNDフィルタを製造するに際し、
第1のスリット型マスクを前記基板と一体的にドーム上を公転させてグラデーション濃度分布をもつ第1層の膜を成膜する工程と、
該第1のスリット型マスクと位置をずらせた第2のスリット型のマスクを前記基板と一体的にドーム上を公転させて前記第1層とは逆方向のグラデーション濃度分布をもつ第2層から最表層手前の膜を成膜する工程と、
最表層の膜を前記のマスクを用いずに成膜する工程と、
を有することを特徴とするNDフィルタの製造方法。
IPC (4件)：
G02B5/00
, C23C14/24
, G02B1/10
, G03B9/02
G02B5/00 A
, C23C14/24 G
, G03B9/02 Z
, G02B1/10 Z
2H042AA11
, 2H042AA22
, 2H080AA20
, 2H080AA31
, 2K009BB24
, 2K009BB28
, 2K009CC03
, 2K009DD03
, 2K009DD06
, 2K009EE00
, 4K029BB02
, 4K029BB03
, 4K029CA01
, 4K029HA01
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示
前のページに戻る
