ホスゲンの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大谷保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-298686
公開番号（公開出願番号）：特開平8-157206
出願日： 1994年12月01日
公開日（公表日）： 1996年06月18日
要約：

【要約】【目的】界面重縮合法ポリカーボネートの製造等に特に好適な高純度ホスゲンを製造することができる方法を見出すこと。【構成】活性炭を一酸化炭素及び塩素に実質的に不活性な材料で希釈し、その触媒層を通して一酸化炭素と塩素とを反応させてホスゲンを製造する方法。

請求項（抜粋）：

活性炭を主成分とする触媒層を通して一酸化炭素と塩素とを反応させてホスゲンを製造する方法において、一酸化炭素及び塩素に実質的に不活性な材料で希釈した触媒層を使用することを特徴とするホスゲンの製造方法。

IPC (2件)：

C01B 31/28 , B01J 21/18

引用特許：

審査官引用 (4件)

全件表示

前のページに戻る