特許
J-GLOBAL ID：200903097359991443
基板処理装置における基板の搬送方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-168604
公開番号（公開出願番号）：特開平7-007065
出願日： 1993年06月14日
公開日（公表日）： 1995年01月10日
要約：
【要約】【目的】 装置を大型化させることなく、処理能力を高めることができる基板処理装置における基板の搬送方法を提供する。【構成】 第1の基板搬送機構が、インデクサID-紫外線照射ユニットUV-スピンスクラバSS1 -ホットプレートHP1 -クールプレートCP1 -密着強化ユニットAP1 -クールプレートCP2 の搬送順序で、しかも周期で被処理基板を搬送する。また、第2の基板搬送機構が、第1の基板搬送機構と同様にして被処理基板を搬送する、つまり同一の搬送順序で、しかも周期で被処理基板を搬送する。ただし、両基板搬送機構の干渉を防止するため、各基板搬送手段により行われる被処理基板の搬送処理は、互いにその搬送周期よりも短い時間だけずれた状態で、行われる。こうして、この周期の間に2枚の基板に対して一連の基板処理が施される。
請求項（抜粋）：
被処理基板にそれぞれ異なる処理を行う複数の処理部と、前記処理部の間を移動自在に構成され、それぞれ独立して前記被処理基板を前記処理部の間で搬送可能なn個(n≧2)の基板搬送手段とを備えた基板処理装置において、各基板搬送手段により、前記被処理基板を所定の搬送順序で、しかも所定の周期Tで前記処理部の間をそれぞれ搬送する基板の搬送方法であって、各基板搬送手段による前記被処理基板の搬送処理が、互いに前記周期よりも短い時間だけずれた状態で、行われることを特徴とする基板処理装置における基板の搬送方法。
IPC (2件)：
前のページに戻る
