特許
J-GLOBAL ID:200903097362889390
シリカ粒子およびその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山本 拓也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-148859
公開番号(公開出願番号):特開平8-337413
出願日: 1995年06月15日
公開日(公表日): 1996年12月24日
要約:
【要約】【目的】 各種標識材、液晶表示用スペーサなどに有用な比較的大きな粒径を有し、かつ粒径の変動係数の小さいシリカ粒子を工業的に有利に提供すること。【構成】 モノアルキルトリアルコキシシランおよびアルキルシリケート二量体からなる群より選択される少なくとも1種で主としてなるシラン化合物をアルカリ性条件下において加水分解する工程を包含するシリカ粒子の製造方法が提供される。このシリカ粒子の平均粒子径は0.1μmから100μmであり、そして粒子径の変動係数は10%以下である。
請求項(抜粋):
モノアルキルトリアルコキシシランおよびアルキルシリケート二量体からなる群より選択される少なくとも1種で主としてなるシラン化合物をアルカリ性条件下において加水分解・重縮合する工程を包含するシリカ粒子の製造方法であって、該シリカ粒子の平均粒子径が0.1μmから100μmであり、そして粒子径の変動係数が10%以下であることを特徴とする、シリカ粒子の製造方法。
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